在镀膜之前，清洁和准备光学件是非常重要的。光学元件有必要具有适合镀膜粘附的清洁外表。一旦镀上膜，基片上未预先除去的污渍就很难被去除了。爱特蒙特光学?会进行一丝不苟的清洁，然后保证产品拥有始终如一的高质量。
浸镀法是仅有能够同时制造双面膜的办法。不过，后来的一些镜片设计要求，不需求双面膜。因而，工艺品渐变加工厂，有必要将另一面清洗掉，增加了本钱和环保的负担。
可以预见，随着真空技术和材料技术的发展以及钢铁行业对发展新型钢材的迫切要求，带钢真空镀膜必将成为带钢表面处理的一种重要的工艺技术，具有良好的发展前景。它为发展新型带钢材料提供了一个重要手段。
相对于传统的电解镀，热浸镀来说，真空镀膜的主要特点是：不使用有害气体、液体，对环境无不利影响。在当前越来越重视环保的大趋势下，这点极其可贵。
真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相堆积（PVD）技术和化学气相堆积（CVD）技术。
物理气相堆积技术是指在真空条件下，工艺品渐变加工成品，运用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接堆积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相堆积方法制得，它运用某种物理进程，如物质的热蒸腾，或遭到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控搬运进程。
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